产品名称：
    F30 原位测量系统
产品简介：
    是监测薄膜沉积的最有效工具，可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口，实时监控长晶速度，实时测量膜厚、n、k值以及半导体和绝缘体涂层的均匀性。可加装三个探头，同时测量三个样品，有三种不同波长选择(波长范围从可见光400nm至近红外1700nm)。测量的薄膜厚度范围从15nm到250um，测量精度优于1%。
主要特点：
    测量精度高，优于1%；
    测量速度快，几秒钟内可完成测量；
    整套设备可放置在沉积室外；
    操作简单，使用方便；
    价格便宜
应用领域：
    分子束外延MBE；
    金属有机物化学气相沉积MOCVD；
    材料研究；
    光电镀膜应用:硬化膜、抗反射膜、滤波片；